在微米级世界里刻下中国制造——“2025年度日照市科技创新成果展示”系列报道之三

　　7月，当山东奥莱电子科技有限公司的名字出现在“日照市2025年度科技创新成果”获奖名单栏时。公司研发中心的实验室里，几位研发骨干正围着一片薄如蝉翼的金属箔材反复测量。

　　这片箔材，厚度仅有30微米，比一根头发丝还细，却是OLED显示屏和高端芯片制造中不可或缺的核心耗材。也正是这片小小的金属掩膜版，让这家落户日照仅六年的企业，站上了科技创新的领奖台。

　　时间回溯到2019年3月，公司创始人隋鑫带着“科技兴国”的念头回国创业时，国内金属掩膜版的市场还是日韩企业的天下。“OLED面板厂、芯片制造厂每采购一批掩膜版，都要经历至少四周的海上运输，中间还时常面临断供风险。”隋鑫告诉记者。

　　市场完全依赖进口，产业链安全面临严峻挑战，必须想办法解决这一难题。创业初期，这个念头深深刻进隋鑫心里。于是，在日照高新区注册成立奥莱电子那天，“半导体/OLED用金属掩膜版研发及量产项目”也随之立项，目标只有一个，把这块“卡脖子”的金属版，做出中国自己的版本。

　　带着这个目标，从立项到厂房拔地而起，再到设备安装调试，奥莱电子用了整整三年。

　　2022年3月，厂房完工、设备就位，真正艰难的研发却才刚刚开始——金属掩膜版需要在厚度仅30微米至100微米的因瓦合金箔材上进行正反两面精准刻蚀，刻蚀深度、锥角角度、R角等指标必须精确到微米级。国外设备厂商只卖通用设备，核心工艺参数被严密封锁，一切只能靠自己摸索。

　　“在一次关键实验中，刻蚀液配比稍有偏差，整批样品全部报废。那天晚上，研发团队谁也没回家，几个人挤在车间里，盯着设备面板上的数据反复推演。连续一周，我们吃住都在车间，泡面箱子堆在角落，困了就在椅子上眯一会儿，醒来接着调整刻蚀温度、压力、速度、药液浓度。”回忆起当时的研发场景，参与研发的胡胜坤记忆犹新。

　　正是这种近乎偏执的反复试错，让团队系统突破了掩膜版补偿设计及仿真模拟、力学四边张网、特殊图案曝光补偿、双面湿法刻蚀等多项国际技术壁垒。

　　如果说双面刻蚀考验的是精度控制，那接下来遇到的难题则堪称“无人区”。

　　硅基OLED微显示用掩膜版需要二阶半刻蚀技术。这是一项此前长期被日本企业垄断的专业技术，面对国内毫无先例可循的技术盲区，研发团队从刻蚀机理研究入手，对不同区域反复进行图形补偿设计，成百上千次反复实验之后，终于实现在单一刻蚀流程中多级深度的一次成型。

　　2022年10月，OLED显示用金属掩膜版实现量产并送样至客户验证。次年，半导体领域晶圆用金属掩膜版完成研发并送样；2025年5月，国内首款硅基液晶光阀芯片金属掩膜版研制成功，正式量产。这些细小的工艺突破，一点一滴构筑起了奥莱电子的技术壁垒，最终实现了金属掩膜版的国产化自主供应。

　　国产化带来的改变是实实在在的。过去，国内面板企业采购金属掩膜版，从韩国厂商下单到到货，至少需要一个月时间，遇到产能紧张时还要排队等货。如今，奥莱电子的供货周期缩短至7至10天。一期CMM产线已进入批量生产阶段，关键图形精度≤25微米，产品通过国内头部面板企业验证，应用于OLED显示蒸镀与半导体芯片制造环节。该公司成为全国首家半导体MEMS芯片用高精密金属掩膜版生产企业，可生产6至12英寸晶圆芯片用高精密金属掩膜版，产品蒸镀阴影比韩国厂商减小32%。

　　2025年，奥莱电子凭借硅基液晶光阀芯片金属掩膜版成果登上《山东好成果专报》，并在第十四届中国创新创业大赛新一代信息技术全国赛中荣获成长组“优秀企业”称号。在省市科技部门的大力支持下，该项目入选2025年度山东省科技股权投资推荐项目，并成功获得省级财政科技股权投资1000万元，为公司持续技术攻关和产能建设提供了坚实的资金保障。

　　“公司预计2028年可在单一产品上实现突破5000万元产值。”隋鑫告诉记者。从2019年那张立项书，到登上科技创新的领奖台，六年时间，奥莱电子用一块巴掌大的金属掩膜版，在一个微米级的世界里，一笔一划刻下了这四个字——中国制造。（日照报业全媒体记者　周小桓）