单次同步注入17片晶圆！艾恩半导体新产品即将上市，闯出半导体装备国产化突围路

11月3日，济南高新区推动民营经济向新向优向好发展新闻发布会上，济南市艾恩半导体科技有限公司发布了全新自研的Ai-200HC.D批靶大束流离子注入机。这家从中国（济南）新动能创新创业大赛中走出的民营硬科技企业，正以全谱系国产化的离子注入装备矩阵，打破海外技术垄断，为国内半导体产线注入自主可控的核心动力。

时间回溯到2024年，艾恩半导体携碳化硅中束流离子注入机项目参加第七届海右人才双创大赛，凭借硬核技术斩获二等奖，随后落地济南高新区。短短两年时间，企业便完成了从参赛项目到产业化落地的跨越，构建起覆盖中束流、大束流、高能、特种等全品类的离子注入装备体系，拥有从特色工艺到硬件设计的全自研正向研发能力，产品可广泛应用于逻辑芯片、功率半导体、汽车电子、化合物半导体等多元场景。

此次发布的Ai-200HC.D批靶大束流离子注入机，正是企业扎根国内产线需求打磨出的主力机型。目前，该产品已经在进行验证，很快将正式上市。

济南市艾恩半导体科技有限公司的财务负责人兼董事会秘书田凤娇介绍，作为半导体制造掺杂环节的核心装备，大束流离子注入机长期制约着功率器件、SOI衬底等赛道的国产化进程。艾恩半导体没有走“照搬海外方案”的捷径，而是深度走访国内数十家晶圆厂，针对国内产线的工艺习惯、维护能力与降本诉求做了全链条优化。

这款面向6至8英寸晶圆的设备，采用成熟的批靶disk靶台架构，单次可同步注入17片6英寸晶圆，从底层架构上满足了产线量产的节拍要求；工艺控制精度更是达到行业先进水平，能量波动误差不到千分之五，晶圆注入均匀性波动不超过1%，可适配氢、硼、磷、砷等十余种主流掺杂元素。

在济南高新区，艾恩半导体的产业化之路走得稳健而扎实。洁净研发车间与房租补贴大幅降低了企业的基建成本，济高系引导基金与耐心资本机制助力企业完成超亿元融资，产业链对接服务则打通了与省内功率器件、碳化硅产线的合作通道。目前企业中束流产品已实现小批量生产，大束流产品正联合客户开展工艺验证，填补了山东省集成电路产业链离子注入机领域的空白。

“半导体装备国产化不是简单的替代，而是要为客户创造实实在在的价值。”田凤娇表示，离子注入机的突围只是起点。未来三年，公司将稳步推进离子注入设备技术全覆盖。现阶段，以Ai-200HC.D批靶大束流离子注入机为核心，深耕6-8寸功率器件、SOI Smart-Cut氢离子注入场景；第二年持续推进该机型量产交付，补齐低能大束流产品；第三年完善产品矩阵，覆盖大束流、中束流、高能注入，兼顾批靶、单片两种架构，满足硅基、宽禁带半导体多场景掺杂需求，实现离子注入主流工艺全覆盖，在济南高新区打造北方半导体装备国产化的重要支点。

（大众新闻记者 段婷婷）